91porn_soul 范德华力堆叠技能造出纠缠光子对

新加坡南洋理工大学科学家开导出一项新技能，使用厚度仅1.2微米的超薄二氯化铌氧化物（NbOCl2）薄片来产生量子筹画所需的纠缠光子对，有望将要津组件的尺寸削弱至正本的千分之一。这一后果代表着范德华力堆叠技能欺诈的新标的。磋磨论文14日发表在《当然·光子学》上。

议论东谈主员讲解说，与需要超低温度的电子量子比特比拟，以光子看成量子比特在室温下即可初始，具有独有上风。当光子以纠缠对模式产生时，不错保执量子态，能以更快速率同期实行多项筹画。可是，使用光子的最大遮挡之一是难以产生填塞多的纠缠光子对，尤其是在使用较薄材料的情况下。

为了责罚这一问题，议论团队使用了具有极度光学性质的NbOCl2材料。他们将两片超薄材料堆叠在一齐，并使它们的晶粒垂直对皆，得手创建了纠缠光子对，且无需突出同步建立。这为开导可彭胀且高效的量子光子系统治来了可能，有望将量子技能凯旋集成到基于芯片的平台中。

范德华力工程是一种通过堆叠二维材料来更正材料特质的技能，已被用于从超导到分数目子反常霍尔效应等多样欺诈。该议论得手的要津在于鼎新了堆叠技能，将两片超薄NbOCl2以垂直角度堆叠，从而达成了偏振纠缠——这是量子筹画的一项基本条目。据团队先容，几十年来，偏振纠缠光子对一直是量子光学执行的基础，但时时需要使用更大、更艰苦的材料。通过范德华力工程，不错无需这些大型装配就能产生偏振纠缠光子。

通过堆叠材料薄片，议论团队生成了具有高度量子相干性的光子对。他们测量了偏振纠缠态的保真度为86%，这标明范德华力工程步调可能是创建量子纠缠态，将量子光子器件凯旋集成到芯片中的可靠阶梯。

范德华力工程的这一欺诈不仅可能对量子筹画产生影响，还可能对安全通讯和其他量子技能产生深刻影响。淌若将量子元件削弱至当今的千分之一，有望带来愈加紧凑、可彭胀且节能的量子系统。

 （记者张佳欣）91porn_soul